5 nm精度极紫外干涉技术，助力突破光刻衍射极限
瑞士Paul Scherrer研究所(PSI)的研究人员开发了一种新的EUV-IL装置，该装置采用基于反射镜的技术，突破了传统基于光栅方法固有的衍射效率对衍射极...
荷兰光刻机爆卖中国
半导体取得成功的唯一途径是合作。 光刻机巨头阿斯麦爆单了，今年前两个季度，中国成为阿斯麦的最大客户。 面对美国的封堵，阿斯麦何以敢继续做中国的生意，答案就在其进...
外媒：荷兰光刻机巨头阿斯麦联合创始人之一维姆・特鲁斯特去世
本文转自【中国新闻网】； 中新网6月12日电 综合外媒报道，当地时间11日晚，荷兰光刻机巨头阿斯麦(ASML)在社交平台发文，悼念其创始人之一维姆・特鲁斯特(W...